Illumina测序平台上每个测序步骤的运行时间预测
Illumina测序的运行时间包括簇生成、边合成边测序化学循环、双端化学反应和清洗步骤。此外，使用非Pattern模式的flow cell的运行在构建模板时会暂停一段时间。为了帮助规划测序工作流程和预测整体运行时间，表1根据Illumina测序平台和试剂版本总结了每个测序步骤的预估时长。
仪器
cBot上簇生成
测序仪器上簇生成
每个循环的时间(分钟)
模板构建暂停时间*
双端测序反转时间
运行后清洗/维护清洗
iSeq 100
N/A
5小时
2.2
N/A
52 分钟
无需清洗
MiniSeq
N/A
90分钟
3.5
测序继续
60 分钟
75分钟
MiSeq v2
N/A
60分钟
Nano = 2.5
Micro = 3
Full = 4.5
测序继续
31 分钟
运行后清洗20分钟，模板管路清洗30分钟，维护清洗90分钟
MiSeq v3
N/A
70分钟
6
测序继续
50 分钟
运行后清洗20分钟，模板管路清洗30分钟，维护清洗90分钟
NextSeq 500/550
N/A
2.5小时
4.6
测序继续
60 分钟
90分钟
NextSeq 1000/2000 P1-标准
N/A
3.75小时
2.5
N/A
40 分钟
可选择性清除试剂：
1.5小时**
NextSeq 1000/2000 P2-标准
N/A
4小时
4.7
N/A
40 分钟
可选择性清除试剂：
1.5小时**
NextSeq 1000/2000 P3-标准
N/A
4小时
8.4
N/A
45 分钟
可选择性清除试剂：
3小时**
NextSeq 1000/2000 P1-XLEAP
N/A
4小时
1.7
N/A
74 分钟
可选择性清除试剂：1.3-3.2小时**
NextSeq 1000/2000 P2- XLEAP
N/A
4小时
3.4
N/A
74 分钟
可选择性清除试剂：
1-3.2小时**
NextSeq 1000/2000 P3- XLEAP
N/A
5小时
6.4
N/A
80 分钟
可选择性清除试剂：1.4-2.7小时**
NextSeq 1000/2000 P4- XLEAP
N/A
5小时
7.4
N/A
80 分钟
可选择性清除试剂：1.4-2.7小时**
HiSeq 2500 Rapid Run v2
N/A
1.5小时
7
1.5 - 2 小时
1 小时
水洗=15 分钟
维护清洗=90 分钟
HiSeq 2500 Rapid Run v2 (cBot)
1 小时
1.5小时
7
1.5 - 2 小时
1 小时
水洗=15 分钟
维护清洗=90 分钟
HiSeq 2500 TruSeq v3
5 小时
N/A
单面运行=53 两面运行=67
4 - 8 小时
4.5 小时
20(清洗限于位置1-8)或者 60 / 130
HiSeq 2500 HiSeq v4
2 小时
N/A
单面运行=19 两面运行=30
5 - 6 小时
3 小时
20(清洗限于位置1-8)或者 60 / 130
HiSeq 3000/4000
单端4小时
双端3小时
N/A
单面运行=12 # 两面运行=16 #
N/A
2.5 小时
20(清洗限于位置1-8)或者 60 / 130
HiSeq X v2.5
3小时
N/A
12 #
N/A
2.5 小时
20(清洗限于位置1-8)或者 60 / 130
NovaSeq 6000
N/A
130分钟¤
SP/S1 = 3.5 S2 = 5 S4 = 6.75
N/A
48 分钟
运行后清洗=80 分钟
维护清洗=80分钟
NovaSeq X/X Plus
N/A
4.6小时
10B =2.8
N/A
50 分钟
运行后清洗=110 分钟
维护清洗=180分钟
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